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中银国际证券:重视光刻工艺环节的国产设备与材料

发布时间:2020-02-18 23:56来源:

  集成电路光刻工艺环节,包括涂胶、光刻、显影、刻蚀、去胶、清洗、烘干等,因此光刻工艺设备,主要是指光刻机、涂胶显影设备、去胶设备,光刻工艺材料主要是指光刻胶。国产光刻机、涂胶显影设备处于所有集成电路工艺设备国产化最薄弱环节,而光刻胶国产化也处于起步阶段,从自主可控角度,光刻工艺环节的设备与材料应从产业链上中下游重点扶植、培育。

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  报告要点 本文来自织梦

  2019年全球光刻机销量359台,同比下降5%,销售额估计为107亿美元,同比增长10%根据ASMLCanonNikon季报数据统计,2016-2019年全球光刻机销量依次是245台、298台、379台、359台,2017-2019年依次同比增长22%27%-5%参考ASML光刻机单价推算,我们估计2016-2019年全球光刻机销售额依次是617598107亿美元,2017-2019年依次同比增长24%30%10%

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  DUVEUV工艺支撑ArF iEUV光刻机需求强劲。2019年光刻机销量359台,其中EUV26台,ArF i 93台,ArF dry 35台,KrF 91台,I-Line 114台,分别同比增长44%0%30%-19%-11%EUVArF i销量合计占比1/3,参考ASML光刻机单价推算,2019年光刻机按销售额计算的EUV28%ArF i54%ArF dry5%KrF10%I-Line3%EUVArF i销售额合计88亿美元占比82%,同比增长15%。 内容来自dedecms

  ASMLCanonNikon市占率依次为89%3%8%2019年按销量计算ASML市占率64%Canon市占率23%Nikon13%ASMLNikon市占率上升;按销售金额计算ASML的市占率89%Canon市占率3%Nikon8%Nikon市占率上升而Canon市占率下降。分产品看,EUV设备市场上ASML市占率保持100%ArF i市场上ASML市占率88%Nikon市占率12%ArF dry市场上ASML市占率63%Nikon市占率37%KrF市场上ASMLCanonNikon市占率分别为71%24%4%I-Line三家公司市占率依次是30%54%16%各类光刻机的竞争格局整体上变化不大。

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(小编:财神)

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